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新型 ALD20 超高純閥專為突破原子層沉積閥技術(shù)的極限而設(shè)計，從而使流量達到使用現(xiàn)有 ALD 閥所能達到的兩到三倍。該閥門使半導(dǎo)體芯片制造商不僅具有增加產(chǎn)量和提高效率的潛力，而且還可以在不顯著改變工藝的情況下做到這一點。 ALD20 可以在與現(xiàn)有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 中提供 1.2 Cv 的流量，從而無需改裝現(xiàn)有設(shè)備即可實現(xiàn)更高的性能 第二款標(biāo)準(zhǔn) ALD20 閥類型具

世偉洛克 超高純隔膜閥（ALD7 系列） 世偉洛克 ALD7 超高純閥提供了在新的或已有的半導(dǎo)體制造設(shè)備中，幫助盡可能地提高芯片產(chǎn)量所必需的流量一致性和流通能力、執(zhí)行機構(gòu)速度、溫度等級和潔凈度。

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